观大势 求新知 会老友 | 东方晶源亮相2024 IC WORLD 盛会

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携手迎机遇,同芯促发展!9月11日-13日,2024北京微电子国际研讨会暨IC WORLD大会在北京亦创国际会展中心盛大启幕。东方晶源亮相本次大会,与业界专家、学者、产业链上下游企业代表、观众进行深入交流,分享最新成果。

9月11日,北京市政府副秘书长许心超等领导到展台参观指导。东方晶源董事长俞宗强博士及公司高层热情接待,介绍公司的新产品、新成果,得到参访领导的高度赞赏和肯定。

此外,为期三天的展会期间,作为国内计算光刻及电子束量测检测领域的先行者、领导者、探索者,东方晶源展台前观众络绎不绝。公司销售、技术人员以饱满的热情细致讲解公司产品,与行业精英共同探讨前沿技术与合作机遇。

今年以来,东方晶源加大研发投入、加快产品迭代步伐,在计算光刻、电子束量测检测等良率管理领域不断取得新突破。

软件方面,结合产业应用及发展痛点,东方晶源旗下计算光刻平台PanGen®再添新产品PanGen DMC®,解决更多可制造性问题。良率管理平台YieldBook不断迭代升级,推出3.0版本,成为业界率先实现对量测数据(MMS)、缺陷数据(DMS)、良率数据(YMS)全面一站式的良率管理软件。此外,随着芯粒系统多物理场耦合仿真分析EDA工具PanSys的发布,标志着东方晶源向芯粒领域迈出重要一步,助力国产芯粒产业快速发展。

硬件方面,电子束缺陷检测设备EBI,关键尺寸量测设备CD-SEM(12英寸和6&8英寸),电子束缺陷复检设备DR-SEM三大产品线全力升级、性能指标进一步提升,继续夯实核心竞争力及行业领导力。同时,东方晶源自主研发的新一代EOS取得突破性成果,成功搭载到旗下硬件产品,率先实现国产EOS在高端量测检测领域的应用,助力产品性能实现进一步攀升,为国产电子束量测检测技术的发展进一步夯实了基础。

未来,东方晶源将不断深耕,持续扩大在计算光刻、电子束量测检测领域的优势,围绕良率管理领域进行更多布局和创新,加速推进HPO(Holistic Process Optimization)良率最大化技术路线和产品设计理念应用落地,为建立适合中国需求的良率最大化流程,打造具有中国特色的GoldenFlow不断奋斗。

责编: 爱集微
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