9月22日，至纯科技与上海交通大学共建的“微纳污染控制技术联合实验室”揭牌仪式在至纯科技隆重举行。联合实验室将围绕前沿预研、工程化验证和产业化攻关开展工作：探索微纳尺度污染物产生、传输与控制机理，为下一代半导体工艺储备核心技术；开放产业资源与验证场景，加速实验室成果向工程化应用转化；聚焦国产化替代瓶颈，联合攻克关键技术，形成自主知识产权成果。
微纳污染控制技术是半导体制造中紧密联系良率的关键底层技术。至纯科技在高纯工艺系统集成领域已实现ppt级不纯物控制能力，核心技术达行业国际先进水平，并在26年的产业实践中累积了诸多的应用经验。上海交通大学在微纳加工、精密制造、材料科学等领域拥有深厚学科积淀和研究平台。此次共建联合实验室，将企业工程经验与高校基础研究优势深度对接，形成“产业出题-联合答题-产业验证”的协同创新闭环。
据悉，联合实验室将建立研发人才培养机制，通过联合科研项目和工程实践，培养兼具学术素养与产业视野的复合型研发人才。此次揭牌标志着双方合作从项目层面迈向平台化、建制化新阶段，将持续深化协同创新，为集成电路产业高质量发展和半导体关键技术自主可控贡献力量。
