2026年10月14日屹唐股份在深圳会展中心举办的 2026年 湾区半导体产业生态博览会（湾芯展） 亮相。展会期间，屹唐股份凭借在技术创新方面的积极探索与持续发展，荣获"技术创新企业奖"，彰显了行业对公司技术研发与创新能力的认可。
作为专注于半导体关键设备与系统解决方案的企业，屹唐股份拥有等离子去胶设备、等离子刻蚀设备、晶圆表面处理设备及快速热退火设备，并在全球各大逻辑、存储等芯片厂商广泛应用。此次展会屹唐股份携等离子刻蚀设备和晶圆表面原子处理设备模型在展台特别展出。 RENA-E®系列等离子体刻蚀设备以独特的电感耦合等离子技术为核心，实现快速介质刻蚀，兼具高刻蚀速率与低器件等离子体损伤。其灵活控制离子能量的能力，有效提升了刻蚀效率并保护器件质量。同时，利用电感耦合特性，解决了传统电容耦合刻蚀中的副产物沉积问题，延长了腔室部件寿命，显著提升平均维护间隔时间，降低了运维成本。这些技术优势使 RENA-E®成为极具竞争力的大规模量产电感耦合等离子体PAD刻蚀设备。 晶圆表面原子处理设备，Nebulex® 选择性刻蚀设备基于业界领先的远程等离子系统，在宽广的工艺范围上提供了独特的气体选择与离子辅助控制方式，在去除介电和导体薄膜材料方面表现出优异的选择性，针对特定结构提供优秀的均匀度控制。Nebulex® 系列是选择性去除工艺在 Logic 逻辑芯片、Memory 存储芯片、Foundry 晶圆制造、Power IC 功率半导体制造的理想解决方案。
未来，屹唐股份将继续立足半导体设备领域，以创新驱动发展，以专业服务客户，为半导体产业发展注入更多动力。本次参展及获奖是业界对我司及产品的又一次认可。屹唐股份将持续深耕技术，精进产品，与行业伙伴共创产业发展新机遇。
