2025年11月25日，上海芯上微装科技股份有限公司（AMIES）自主研发的首台350nm步进光刻机（AST6200 ）正式完成出厂调试与验收，启程发往客户现场。芯上微装官方消息指出，这标志着我国在高端半导体光刻设备领域再次实现关键突破。这不仅是一次产品的交付，更是国产半导体装备向高端化、自主化迈进的重要里程碑。
据介绍，AST6200光刻机是芯上微装基于多年光学系统设计、精密运动控制与半导体工艺理解积淀，打造的高性能、高可靠性、全自主可控的步进式光刻设备，专为功率、射频、光电子及Micro LED等先进制造场景量身定制。
上海芯上微装科技股份有限公司拥有一支由光学、机械、控制、软件与半导体工艺专家组成的顶尖研发团队，掌握多项核心专利技术，在投影物镜、精密运动台、曝光系统等领域实现关键技术自主突破。
芯上微装官方消息显示，据市场研究机构预测，到2030年化合物半导体器件市场规模将达到250亿美元，增速几乎是整体市场的两倍。然而，高性能芯片的制造离不开高精度、高稳定性的光刻工艺支持。长期以来，高端光刻设备被国外厂商垄断，严重制约我国产业链自主可控进程。芯上微装应势而生，推出AST6200光刻机，为国产化合物半导体制造提供强有力的核心装备支撑。
