御势前行 微启芯河
厚积薄发，铢积寸累。2026年7月29日，御微半导体全新自研的国内首款可完整覆盖 90nm 至 28nm 制程节点的掩模图形缺陷检测设备 Raptor-600 正式发运国内头部晶圆厂。
自2025年初，可完整覆盖 90nm及以上的初代机型Raptor-500交付落地后，Raptor 系列多台设备先后在客户端量产，并在 2026 SEMICON China 展会面向全行业正式亮相。
本次进阶机型 Raptor-600 的推出，补齐产品能力边界，意味着御微实现掩模图形缺陷检测赛道，从通用成熟制程到高端 28nm 节点的完整覆盖。
公司总裁王帆在发运仪式中表示，御微自成立以来，始终坚守核心技术自主可控的初心，深耕半导体量检测领域。Raptor-600首台发运，是公司自主创新历程中的重要里程碑。该设备填补了国内高端掩模图形缺陷检测设备在 90nm 至 28nm 制程节点的关键空白，将为集成电路客户提供更具竞争力的良率保障。公司将坚持以客户为中心，同心协力，精益求精。面向未来，御微将以本次设备发运为全新起点，持续为全球客户创造核心价值，携手推动半导体产业链协同升级。
副总裁孙刚回顾了Raptor-600从立项到出机的技术攻关历程，每一次性能的提升、每一个风险的规避，最终都是为了更好地服务客户——御微所做的所有努力，最终都要落到为客户创造价值上。
产品事业部总经理王伟分享，从Raptor-500到Raptor-600，仅用了520天——这背后是光电、机电、算法、软件、测试等多个部门同事的日夜拼搏，正是各团队在各自领域反复打磨、紧密配合，才确保了整机性能的全面跃升。
项目组成员也围绕项目整体推进，分享了团队如何相互补位、协力攻关的经历。这份成果属于团队中的每一个人，是大家同心攻坚、彼此支撑换来的共同荣耀。
Raptor-600 落地，完善掩模全流程检测产品矩阵
掩模版是芯片光刻环节的核心 “母版”，它的品质直接左右整片晶圆的生产良率。细微的图形缺陷，都有可能造成整批晶圆全部报废。
针对 28nm 及以上制程掩模版严苛的检测标准，Raptor-600 将为单价数万至数十万美元的高端掩模版，筑牢品质检测防线。
依托量产机型Raptor-500成熟平台架构，经过一年多现场产线迭代打磨，Raptor-600 完成全方位技术升级：
自研高分辨率透反射双光路紫外成像系统，同步捕捉各类影响掩模及光刻良率缺陷
搭载纳米级高精度运动平台，保障检测定位微米级稳定精度
配套超大图像并行计算引擎，缺陷识别速度与适配性大幅提升
设备可分辨精细图形、规避辅助图形干扰，快速检出图形缺损、表面污染物等各类问题，同时适配掩模制造厂、晶圆厂两大场景，满足全流程品质管控需求。
Raptor-600 顺利发运，进一步扩充御微半导体掩模检测完整产品线。
公司布局掩模基板制造、掩模版制造和晶圆制造三大掩模应用核心场景，打造三大产品矩阵：Halo 掩模基板检测、i6R 掩模全景质量管理、Raptor 掩模图形缺陷检测。多款设备已实现批量量产交付，为客户提供掩模全生命周期质量控制方案，同步提升产线良率与生产效率。
