【财报快解】盛美上海2025年营业收入67.86亿元,巩固清洗设备、电镀设备等领域竞争优势

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2026年2月26日,盛美上海发布2025年度报告。2025年公司销售收入增长主要受益于中国大陆市场需求强劲,公司凭借技术差异化优势成功把握市场机遇,同时产品技术水平和性能持续提升,市场认可度不断提高。公司将继续聚焦高端半导体设备研发,推动产品平台化战略,巩固在清洗设备、电镀设备等领域的竞争优势,为全球客户提供更优质的工艺解决方案。

营收规模稳步增长,毛利率保持行业领先

财报数据显示,盛美上海2025年实现营业收入67.86亿元,同比增长20.80%;归属于上市公司股东的净利润13.96亿元,同比增长21.05%。值得关注的是,公司主营业务毛利率为47.48%,其中半导体清洗设备毛利率44.54%,其他半导体设备(电镀、立式炉管等)毛利率60.04%,先进封装湿法设备毛利率24.93%,整体盈利能力保持行业领先水平。

从区域市场来看,中国大陆区域收入为64.74亿元,占主营业务收入的99.55%,同比增长19.68%;中国大陆以外区域收入为0.29亿元,占比0.45%,同比减少3.58%。公司表示,中国大陆市场需求的持续增长是驱动业绩的核心动力,未来将继续深耕本土市场,同时积极拓展国际市场。

按产品应用划分,半导体清洗设备贡献收入45.06亿元,占比69.28%,同比增长11.06%;其他半导体设备(电镀、立式炉管、无应力抛铜等)收入16.61亿元,占比25.54%,同比增长46.05%;先进封装湿法设备收入3.37亿元,占比5.18%,同比增长37.04%。其中,电镀设备国际市占率达8.2%,全球排名第三,清洗设备国际市占率8.0%,全球排名第四,核心产品市场地位稳固。

核心产品矩阵:技术差异化驱动,覆盖多领域应用

盛美上海核心产品围绕半导体专用设备展开,形成以清洗设备、电镀设备为核心,覆盖立式炉管、涂胶显影、PECVD等多品类的完善产品矩阵,技术差异化优势显著,是业绩增长和毛利率提升的核心支撑。公司专注于为全球芯片设计企业提供定制化设备及工艺解决方案,不涉及芯片设计环节,成为半导体产业链中的“核心设备供应商”。

清洗设备是公司营收的核心支柱,2025年实现收入45.06亿元,占比近70%。公司自主研发的SAPS兆声波清洗技术通过控制兆声波发生器与晶圆的相对运动,实现能量均匀分布,解决了传统兆声清洗中晶圆翘曲导致的清洗不均难题;TEBO兆声波清洗技术通过精准控制气泡振荡,实现28nm及以下图形晶圆的无损伤清洗,可应用于FinFET、3DNAND等先进工艺。

2025年,SAPS技术在客户端高端工艺验证中取得突破,TEBO技术在18-19nmDRAM工艺评估中表现优异,高温SPM设备颗粒控制水平达到全球领先,26nm颗粒数量少于10颗,平均少于5颗。此外,公司的Tahoe单片槽式组合清洗设备集成槽式与单片模块,可减少75%的硫酸消耗量,帮助客户降低成本并符合节能环保政策,已在65nm、55nm等技术节点产线验证完成。

电镀设备是公司差异化竞争的重要抓手,2025年实现收入16.61亿元,同比增长46.05%。公司的多阳极局部电镀技术采用新型电流控制方法,实现毫秒级快速切换,可在超薄籽晶层上完成无空穴填充,适用于28nm及以下技术节点的铜互连工艺。三维堆叠电镀设备针对高深宽比(>10:1)铜应用,提供高性能无孔洞镀铜功能,为客户降低成本并节省设备面积。新型化合物半导体电镀设备在深孔镀金工艺中表现优异,台阶覆盖率优于竞争对手,已实现量产并完成去镀金技术模块销售。此外,公司的ECP先进封装电镀设备可实现2μm超细RDL线电镀,覆盖铜、镍、锡等多种金属层,自主开发的橡胶环密封专利技术提升了密封效果,在先进封装领域形成批量销售。

2025年,公司在新产品开发方面取得重大突破。前道涂胶显影UltraLithTMTrack设备采用垂直交叉式架构,支持主流光刻机接口,首台高产能KrF工艺设备于2025年9月交付中国头部逻辑晶圆制造厂;等离子体增强化学气相沉积PECVD设备配置自主知识产权的腔体和卡盘设计,在多工艺成膜上实现突破,已在临港测试研发线上完成demo测试;立式炉管设备中的LPCVD、氧化炉等已进入多个中国集成电路制造厂并实现量产,原子层沉积炉管正在客户端调试优化。这些新产品的推出将进一步扩大公司的可服务市场规模,为未来增长奠定基础。

公司管理层表示,2025年设备产量同比增长,生产运营效率持续提升,准时交付率较高。产能整合顺利完成,临港研发验证线启用后,设备内部迭代验证速度加快,有效缩短了客户端验证时间。公司将继续优化产能布局,提升交付能力,以满足市场需求。

毛利率保持稳定,长期发展战略明确

公司2025年主营业务毛利率为47.48%,较上年减少0.66个百分点,主要受产品结构变化影响。其中,半导体清洗设备毛利率44.54%,同比减少1.63个百分点;其他半导体设备毛利率60.04%,同比增加0.71个百分点;先进封装湿法设备毛利率24.93%,同比减少3.88个百分点。公司表示,毛利率的变化主要是由于高毛利率的电镀设备等产品占比提升,部分抵消了清洗设备毛利率的下降,整体盈利能力保持稳定。展望未来,随着新产品的量产和高端工艺的突破,公司毛利率有望保持在较高水平。

基于2025年的业绩表现,公司预计2026年将继续受益于半导体行业的增长,尤其是中国大陆市场的需求。公司将加大研发投入,推动高端半导体设备的迭代研发,包括清洗设备、电镀设备、涂胶显影设备等,提升产品性能和市场竞争力。同时,公司将加快临港研发和工艺测试平台建设,完善研发测试环节的产业布局,为产品从研发到定型提供更完善的测试配套服务。

公司长期发展战略为“技术差异化、产品平台化、客户全球化”。在技术方面,公司将持续聚焦高端半导体设备的研发,保持在清洗、电镀等领域的技术领先优势;在产品方面,推动平台化战略,实现产品的快速迭代和定制化开发;在客户方面,巩固国内市场地位,积极拓展国际市场,提升全球市场份额。此外,公司将加强供应链管理,优化供应商结构,推进关键零部件的国产化替代,增强供应链韧性,为长期发展提供保障。

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